Tekniker

Sellos de níquel para litografía de nanoimpresión

Objetivo

Mejora de propiedades en sellos para litografía de nanoimpresión.

Resultados

Obtención de sellos de níquel con propiedades mecánicas y durabilidad mejoradas.

Sellos de níquel para litografía de nanoimpresión

En procesos de litografía de nanoimpresión (NIL) tradicionalmente se han utilizado moldes de silicio.

Sin embargo, la fragilidad inherente del silicio hace que sea inadecuado el uso repetido de estos sellos durante largos periodos de tiempo.

Además, en el caso de sellos de grandes dimensiones, que contienen una elevada densidad de motivos en la escala nano, el área de contacto del sello con la resina de NIL se incrementa, aumentando el riesgo de deterioro cuando el mismo sello de silicio se emplea repetidamente.

Estos inconvenientes se pueden resolver fácilmente utilizando moldes metálicos. En este sentido, se han fabricado sellos de níquel obtenidos mediante electroformado que presentan un nivel reducido de tensiones internas y de rugosidad superficial, mostrando unas propiedades mecánicas y una durabilidad superiores a las de los sellos de silicio.

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