Tekniker

Litografia

Litografia

Motibo geometriko jakin batek osatzen duen diseinua substratu batera transferitzen duen eta substratu hori mikro edo nanoeskalan egituratuta uzten duen prozesua da litografia.

Nanoinprimaketako litografia

Beroko estanpazioaren edo nanoinprimaketako litografiaren bidez, polimero termoplastikoak era etenean eta etengabean masa gisa (bulk) edo substratu gaineko geruza mehe gisa egituratu daitezke, eta, hala, jatorrizko moldearen (master) edo alderantzizkoaren erreplika lor daiteke eraso- eta jalkitze-prozesuak konbinatuz.

Prozesu horien bidez, molde nagusiaren bereizmenaren balio-tarte bereko balioak lor daitezke, eta, kasu batzuetan, zenbait hamarka nanometroko tartean zehaztutako egiturak lor daitezke.

Ultramoreko (UV) litografia

Ultramoreko fotolitografia lerrokatzeko makinaren bidez, neurrirako fotolitografia-prozesuak egin daitezke 6 hazbeteko diametrorainoko substratu lauetan (gainazal handiagoak ere izan daitezke), eta, horri esker, sentsorikan, mikrofuidikan, litografia bigunean eta abarretan erabiltzeko moduko mikroegiturak fabrikatu daitezke (1 µm-rainoko bereizmena).

Prozesua bateragarria da itsaste anodikoko EVG 501 ekipoarekin, eta substratua bi aldeetatik lerrokatzeko aukera ematen du.

Litografiaren ezaugarriak

  • Nanoinprimaketako litografiaren bidez, prototipo polimerikoak bizkor fabrika daitezke.
  • Nanoinprimaketako litografiaren bidez, motibo nanometrikoak dituzten zigiluen erreplikak egin daitezke.
  • Litografia bidez fabrikatutako substratu mikro eta nanoegituratuak aplikazio askotan erabil daitezke (optika eta fotonika, bioteknologia, sentsorika, gainazal superhidrofoboak, akabera dekoratiboak, faltsutzearen aurkako diseinuak, e.a.).

Erlazionaturiko edukiak

  • Bideoak
  • Array ( [id] => 1 [idcategoria] => 1 [idsubcategoria] => 6 [imagen] => 01_AI_FA_Litografia.jpg [caso_exito_1] => 1 [caso_exito_2] => 2 [caso_exito_3] => 3 [cliente_1] => 1 [cliente_2] => [cliente_3] => [direcciones_email] => Consultasweb@tekniker.es [titulo] => Litografia [video] => [texto_1] =>

    Motibo geometriko jakin batek osatzen duen diseinua substratu batera transferitzen duen eta substratu hori mikro edo nanoeskalan egituratuta uzten duen prozesua da litografia.

    Nanoinprimaketako litografia

    Beroko estanpazioaren edo nanoinprimaketako litografiaren bidez, polimero termoplastikoak era etenean eta etengabean masa gisa (bulk) edo substratu gaineko geruza mehe gisa egituratu daitezke, eta, hala, jatorrizko moldearen (master) edo alderantzizkoaren erreplika lor daiteke eraso- eta jalkitze-prozesuak konbinatuz.

    Prozesu horien bidez, molde nagusiaren bereizmenaren balio-tarte bereko balioak lor daitezke, eta, kasu batzuetan, zenbait hamarka nanometroko tartean zehaztutako egiturak lor daitezke.

    Ultramoreko (UV) litografia

    Ultramoreko fotolitografia lerrokatzeko makinaren bidez, neurrirako fotolitografia-prozesuak egin daitezke 6 hazbeteko diametrorainoko substratu lauetan (gainazal handiagoak ere izan daitezke), eta, horri esker, sentsorikan, mikrofuidikan, litografia bigunean eta abarretan erabiltzeko moduko mikroegiturak fabrikatu daitezke (1 µm-rainoko bereizmena).

    Prozesua bateragarria da itsaste anodikoko EVG 501 ekipoarekin, eta substratua bi aldeetatik lerrokatzeko aukera ematen du.

    [fase_1] => [fase_2] => [fase_3] => [fase_4] => [texto_2] =>

    Litografiaren ezaugarriak

    • Nanoinprimaketako litografiaren bidez, prototipo polimerikoak bizkor fabrika daitezke.
    • Nanoinprimaketako litografiaren bidez, motibo nanometrikoak dituzten zigiluen erreplikak egin daitezke.
    • Litografia bidez fabrikatutako substratu mikro eta nanoegituratuak aplikazio askotan erabil daitezke (optika eta fotonika, bioteknologia, sentsorika, gainazal superhidrofoboak, akabera dekoratiboak, faltsutzearen aurkako diseinuak, e.a.).
    [texto_tabla] => [enlace_flickr] => https://www.flickr.com/photos/teknikerik4/sets/72157648291763244/ [enlace_youtube] => https://www.youtube.com/playlist?list=PLdI9ptv1PWEzyrR3vQdyirdnMfE_8KX2u [enlace_issuu] => [enlace_slideshare] => [seo_h1] => Litografia [seo_url] => litografia [seo_title] => Litografia - IK4-TEKNIKER [seo_desc] => Motibo geometriko jakin batek osatzen duen diseinua substratu batera transferitu eta mikro edo nanoeskalan egituratuta uzten duen prozesua da litografia. [imagenes] => [enlaces] => Array ( [0] => Array ( [imagen] => [titulo] => Paul Scherrer Institut [texto_corto] => [enlace] => https://www.psi.ch/ [alt] => Paul Scherrer Institut ) [1] => Array ( [imagen] => [titulo] => Universidade do Minho [texto_corto] => [enlace] => http://www.uminho.pt/en/home_en [alt] => Universidade do Minho ) [2] => Array ( [imagen] => [titulo] => Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia [texto_corto] => [enlace] => http://www.icn.cat/index.php/es/ [alt] => Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia ) [3] => Array ( [imagen] => [titulo] => Danmarks Tekniske Universitet [texto_corto] => [enlace] => http://www.dtu.dk/english [alt] => Technical University of Denmark ) [4] => Array ( [imagen] => [titulo] => Instituto de Microelectrónica de Barcelona [texto_corto] => [enlace] => http://www.imb-cnm.csic.es/index.php/en/ [alt] => Instituto de Microelectrónica de Barcelona ) [5] => Array ( [imagen] => [titulo] => Instituto de Microelectrónica de Madrid [texto_corto] => [enlace] => http://www.imm.cnm.csic.es/es [alt] => Instituto de Microelectrónica de Madrid ) [6] => Array ( [imagen] => [titulo] => Innovent [texto_corto] => [enlace] => http://www.innovent-jena.de/en/site__2/ [alt] => Innovent ) [7] => Array ( [imagen] => [titulo] => Biomedical Materials Group, Martin Luther Universität Halle-Wittenberg [texto_corto] => [enlace] => http://bmm.pharmazie.uni-halle.de/?lang=en [alt] => Biomedical Materials Group, Martin Luther Universität Halle-Wittenberg ) [8] => Array ( [imagen] => [titulo] => Departamento de Física Aplicada, Universidad de Alicante [texto_corto] => [enlace] => http://dfapl.ua.es/es/ [alt] => Departamento de Física Aplicada, Universidad de Alicante ) [9] => Array ( [imagen] => [titulo] => Fagor Automation [texto_corto] => [enlace] => http://www.fagorautomation.com/ [alt] => Fagor Automation ) [10] => Array ( [imagen] => [titulo] => Grupo Tirso [texto_corto] => [enlace] => http://www.tirso.org/ [alt] => Grupo Tirso ) [11] => Array ( [imagen] => [titulo] => Histocell [texto_corto] => [enlace] => http://www.histocell.com/index.php/en/ [alt] => Histocell ) [12] => Array ( [imagen] => [titulo] => Proteomika [texto_corto] => [enlace] => http://www.proteomika.com/ [alt] => Proteomika ) ) [publicaciones] => Array ( [0] => Array ( [titulo] => Dispositivo para la detección de una única molécula en situación de nanoconfinamiento y en régimen dinámico, procedimiento de fabricación y uso [enlace] => eu/asmaketak/#P201330922 ) [1] => Array ( [titulo] => Biosensado para la monitorización de enfermedades: sensores plasmónicos con redes de nanoagujeros metálicos basados en técnicas de nanofabricación escalables [enlace] => biosensado-para-la-monitorizacion-de-enfermedades-sensores-plasmonicos-con-redes-de-nanoagujeros-metalicos-basados-en-tecnicas-de-nanofabricacion-escalables ) [2] => Array ( [titulo] => Artificial dermis, artificial skin, methods for their preparation and their uses [enlace] => eu/asmaketak#P131577ES ) [3] => Array ( [titulo] => Dispositivo y método para la detección de biomarcadores [enlace] => eu/asmaketak#PCT-ES2014-070215 ) [4] => Array ( [titulo] => Thermal-nanoimprint lithography for perylenediimide-based distributed feedback laser fabrication [enlace] => thermal-nanoimprint-lithography-for-perylenediimide-based-distributed-feedback-laser-fabrication ) [5] => Array ( [titulo] => Perylenediimide-based distributed feedback lasers with holographic relief gratings on dichromated gelatin [enlace] => perylenediimide-based-distributed-feedback-lasers-with-holographic-relief-gratings-on-dichromated-gelatin ) [6] => Array ( [titulo] => Improved performance of perylenediimide-based lasers [enlace] => improved-performance-of-perylenediimide-based-lasers ) [7] => Array ( [titulo] => Preliminary study on different technological tools and polymeric materials towards superhydrophobic surfaces for automotive applications [enlace] => preliminary-study-on-different-technological-tools-and-polymeric-materials-towards-superhydrophobic-surfaces-for-automotive-applications ) [8] => Array ( [titulo] => Real-Time Label-Free Surface Plasmon Resonance Biosensing with Gold Nanohole Arrays Fabricated by Nanoimprint Lithography [enlace] => real-time-label-free-surface-plasmon-resonance-biosensing-with-gold-nanohole-arrays-fabricated-by-nanoimprint-lithography ) ) [sectores] => Array ( [0] => Array ( [titulo] => Automobilgintza [seo_url] => automobilgintza [imagen] => automocion.png ) ) [soluciones] => Array ( [0] => Array ( [titulo] => Gainazal multifuntzionalak [seo_url] => gainazal-multifuntzionalak [imagen] => IMG_ST_Superficies_805x459.jpg ) [1] => Array ( [titulo] => Gailu sentsoreak [seo_url] => gailu-sentsoreak [imagen] => IMG_ST_DispositivosSensores_805x459.jpg ) ) [equipamiento] => Array ( [0] => Array ( [id] => 3 [titulo] => Ultramoreko fotolitografiarako EVG 620 lerrokatzeko makina [imagen] => Alineadora_para_fotolitografia_ultravioleta_EVG_620.jpg [texto] =>
    EKIPAMENDUAREN EZAUGARRIAK
    • 350-450 nm-ko tarteko esposizioa
    • 350 W-eko potentziako lanpara
    • 6 hazbete bitarteko substratuekin lan egiteko prestatuta; eskala handiko substratuekin lan egiteko ere moldagarria

    EXPERTISE

    • Gailu optikoen fabrikazioa (erregela optikoak, difrakzio-sareak, etab.)
    • Topografiaren ondoriozko ezaugarri funtzionalak dituzten gainazalak lortzea (islaren aurkakoak, hidrofilia/hidrofobia kontrolatua, proteinen atxikidura/aldarapena, zelula-portaeran eragina, etab.).
    • Sentsoreen eta biosentsoreen fabrikazioa
    ) [1] => Array ( [id] => 103 [titulo] => Nanoinprimaketa litografikoaren bidez etengabe estanpatzeko sistema [imagen] => IMG_Roll_to_Roll_767x431.jpg [texto] =>

    EKIPOAREN EZAUGARRIAK

    • Argi ultramore (UV) bidezko ontze-modulua eta modulu termikoa
    • Abiadura-tartea: 0,05-5 m/min
    • Alderantzizko grabatu bidezko erretxina jalkitzea
    • Modulu termikoaren gehieneko presioa: 5000 N
    • Gehieneko tenperatura: 250ºC
    • Filmaren zabalera: 100 mm
    • Ultrasoinuen bidezko film-lerrokadura
    • Prozesuaren tentsioaren sentsorea

    EXPERTISE

    • Beren topografiaren ondoriozko ezaugarri funtzionalak dauzkaten gainazalak lortzen dira (islapen aurkakoak, hidrofilia/hidrofobia kontrolatua dutenak, zelulen jokaeran eragiten dutenak, faltsutzeen aurkakoak, apaingarriak eta abar).

     

    ) [2] => Array ( [id] => 2 [titulo] => Beroko estanpazio-sistema / Jenoptik HEX 03 nanoinprimaketako litografia [imagen] => Sistema_Estampado_Caliente_Litrografia_Nanoimpresion.jpg [texto] =>
    EKIPAMENDUAREN EZAUGARRIAK
    • 220 ºC-ko gehienezko tenperatura
    • 200 kN-eko gehienezko indarra
    • 4 hazbetera bitarteko moldeekin lan egiteko prestatua

    EXPERTISE

    • Prototipo polimerikoen abiadura handiko fabrikazioa
    • Sentsoreen eta biosentsoreen fabrikazioa
    • Biogailuen fabrikazioa
    • Gailu fotoniko/optikoen fabrikazioa
    • Topografiaren ondoriozko ezaugarri funtzionalak dituzten gainazalak lortzea (islaren aurkakoak, hidrofilia/hidrofobia kontrolatua, proteinen atxikidura/aldarapena, zelula-portaeran eragina, etab.).
    ) ) )
  • Argazkiak

Sektore industrialak

Webgune honek cookie-ak erabiltzen ditu

Cookie-ak erabiltzen ditugu nabigazio esperientzia hobetzeko eta gure zerbitzuak eskaintzeko. Nabigatzen jarraitzen baduzu, ulertuko dugu horien erabilera onartzen duzula.

Informazio gehiago nahi baduzu, kontsultatu gure Cookie Politika.

Onartu