Litografía

Litografía

La litografía es el proceso por el que un diseño consistente en un determinado motivo geométrico se transfiere a un sustrato, de modo que este sustrato queda estructurado en la micro o nanoescala.

Litografía de nanoimpresión

El estampado en caliente/litografía de nanoimpresión permite estructurar, tanto en discontinuo como en continuo, polímeros termoplásticos tanto en masa (bulk) como depositados como capa fina sobre un sustrato, permitiendo en este caso la réplica del molde original (máster) o su inverso, mediante la combinación con procesos de ataque y deposición.

Mediante estos procesos se pueden obtener resoluciones en el rango del máster empleado, llegando a obtener estructuras definidas en el rango de decenas de nanómetros.

Litografía ultravioleta (UV)

La alineadora para fotolitografía ultravioleta permite la realización de procesos fotolitográficos a medida en sustratos planos de hasta 6 pulgadas de diámetro (ampliable a superficies aún mayores), para fabricar microestructuras (resolución de hasta 1 µm) que pueden ser empleadas en sensórica, microfluídica, litografía blanda, etc.

El proceso es compatible con el equipo de pegado anódico EVG 501 y permite el alineamiento del sustrato por ambas caras.

Características de la litografía

  • La litografía de nanoimpresión permite la fabricación de prototipos poliméricos con gran rapidez.
  • La litografía de nanoimpresión permite la replicación de sellos con motivos nanométricos.
  • Los sustratos micro y nanoestructurados fabricados mediante litografía pueden ser empleados para aplicaciones muy variadas (óptica y fotónica, biotecnología, sensórica, obtención de superficies superhidrófobas, acabados decorativos, diseños antifalsificación, etc.).

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    Litografía de nanoimpresión

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    Mediante estos procesos se pueden obtener resoluciones en el rango del máster empleado, llegando a obtener estructuras definidas en el rango de decenas de nanómetros.

    Litografía ultravioleta (UV)

    La alineadora para fotolitografía ultravioleta permite la realización de procesos fotolitográficos a medida en sustratos planos de hasta 6 pulgadas de diámetro (ampliable a superficies aún mayores), para fabricar microestructuras (resolución de hasta 1 µm) que pueden ser empleadas en sensórica, microfluídica, litografía blanda, etc.

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    CARACTERÍSTICAS DEL EQUIPO

    • Temperatura máxima de 220ºC
    • Fuerza máxima de 200 kN
    • Preparada para trabajar con moldes de hasta 4 pulgadas

    EXPERTISE

    • Fabricación de prototipos poliméricos con gran rapidez
    • Fabricación de sensores y biosensores
    • Fabricación de biodispositivos
    • Fabricación de dispositivos fotónicos/ópticos
    • Obtención de superficies con características funcionales provenientes de su topografía (antirreflejantes, de hidrofilia/hidrofobia controlada, adhesión/repulsión de proteínas, con influencia en el comportamiento celular, etc.)
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    CARACTERÍSTICAS DEL EQUIPO

    • Exposición en el rango 350-450 nm
    • Potencia de la lámpara 350 W
    • Preparada para trabajar con sustratos de hasta 6 pulgadas, siendo adaptable para su trabajo con sustratos de gran escala

    EXPERTISE

    • Fabricación de dispositivos ópticos (reglas ópticas, redes de difracción, etc.)
    • Obtención de superficies con características funcionales provenientes de su topografía (antirreflejantes, de hidrofilia/hidrofobia controlada, adhesión/repulsión de proteínas, con influencia en el comportamiento celular, etc.)
    • Fabricación de sensores y biosensores
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    CARACTERÍSTICAS DEL EQUIPO

    • Módulos de curado ultravioleta (UV) y térmico
    • Rango de velocidad: 0.05-5 m/min
    • Deposición de resina por hueco grabado inverso
    • Presión máxima del módulo térmico: 5000 N
    • Temperatura hasta 250ºC
    • Anchura de lámina de 100 mm
    • Alineamiento de la lámina por ultrasonidos
    • Sensor de la tensión del proceso

    EXPERTISE

    • Obtención de superficies con características funcionales provenientes de su topografía (antirreflejantes, de hidrofilia/hidrofobia controlada, con influencia en el comportamiento celular, anti-falsificación, decorativas etc.).

     

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Sectores industriales

Automoción